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CABALLERO de ANTARES.

Intel Fabrica Nuevos Chips de  45 nanómetros para el 2008

Los transistores o chips más pequeños son claves para incrementar la potencia y eficiencia de los microprocesadores. Unos 400 transistores de 45 nanómetros caben en un glóbulo rojo humano.

La producción inicial de componentes de Intel de 45 nm se va a realizar en su fábrica de Oregón (conocida como D1D.) La compañía está construyendo en estos momentos otras dos fábricas que van a utilizar tecnología de fabricación de 45 nm. La Fab 32 - de 3.000 millones de dólares - en Chandler, Arizona, que va a comenzar su producción a finales de este año, y la Fab 28 - de 3.500 millones de dólares en Kiryat Gat, Israel, que va a iniciar su producción durante el primer semestre del año que viene.

El proceso de fabricación de Intel de 45 nm, con material dieléctrico high K y puerta metálica, es uno de los mayores avances en el diseño de transistores que se han producido en los últimos 40 años, y consiste en una combinación de nuevos materiales para reducir en gran medida las fugas eléctricas y mejorar el rendimiento de los transistores, asegura la empresa TI.

Además, cuando comience el proceso de fabricación de componentes de 45 nm a finales de este año, Intel va a utilizar un nuevo material con una mayor capacidad dieléctrica high-k, así como una combinación última de materiales metálicos para el electrodo de la puerta del transistor.

Las primeras versiones de la familia de procesadores de Intel elaborados con tecnología de 45 nm de la próxima generación unos productos con nombre en código Penryn ya funcionan con múltiples sistemas operativos y aplicaciones y, de hecho, la compañía está en camino para comenzar la producción de procesadores con la misma tecnología a partir del segundo semestre de este año.

Intel planea una inversión estimada de entre 1.000 millones y 1.500 millones de dólares  en sus instalaciones de Río Rancho, Nuevo México, para equipar la Fab 11X y, con ello, permitir el empleo de la próxima tecnología de fabricación en 45 nanómetros (nm) para el segundo semestre del 2008.

La fábrica que se renovará, en Rio Rancho en Nuevo México, es conocida como Fab 11X y será la cuarta de Intel que fabrique chips con tecnología de 45 nanómetros, que incluye nuevos materiales que incrementan la eficiencia de los microprocesadores al reducir las pérdidas de electricidad.  Mediante esta estrategia, la Fab 11X se equipa para convertirse en la cuarta fábrica de la compañía TI con tecnología de la próxima generación.

"Nuestro nuevo proceso de fabricación de componentes a 45 nanómetros representa una de las innovaciones más importantes en fabricación que se ha producido en décadas y pensamos que su incorporación en nuestra fábrica de Nuevo México nos va a permitir ofrecer a nuestros clientes los mejores productos posibles," ha manifestado Paul Otellini, presidente y consejero delegado de Intel Corporation. "Nuestras instalaciones de Río Rancho han funcionado con éxito en Nuevo México durante 27 años. Basándonos en estos resultados, estamos encantados de equipar a la Fab 11X para utilizar la tecnología de Intel de la próxima generación".

La nueva tecnología incluye una combinación innovadora de nuevos materiales y servirá para reducir en buena parte las fugas eléctricas y mejorar el rendimiento de los transistores. "Nuestro nuevo proceso de fabricación de componentes a 45 nm. representa una de las innovaciones más importantes en fabricación que se ha producido en décadas y pensamos que su incorporación en nuestra fábrica de Nuevo México nos va a permitir ofrecer a nuestros clientes los mejores productos posibles", aseguró el presidente y consejero delegado de Intel, Paul Otellini.

La Fab 11X fabrica en estos momentos procesadores con tecnología de 90 nm y con obleas de 300 mm. Esta instalación comenzó su producción en octubre de 2002 y fue la primera fábrica que empleó estas obleas de 300 mm, ó 12 pulgadas, para la fabricación de componentes en grandes cantidades.

 Un portavoz del mayor fabricante de microchips del mundo dijo que el gasto de capital de Intel, de entre 5.300 millones y 5.700 millones de dólares, incluye la porción de los costos de renovación que serán gastados este año.

La compañía no ha pronosticado un gasto de capital para el 2008.

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